证券之星消息，根据企查查数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“紫外光固化纳米压印材料及其制备方法、压印模板”，专利申请号为CN4.3，授权日为2024年4月5日。

　　专利摘要：本公开提供一种紫外光固化纳米压印材料及其制备方法、压印模板，属于微纳制造技术领域，其解决了紫外光固化纳米压印材料与衬底间粘附力低的问题。本公开的紫外光固化纳米压印材料包括丙烯酸酯类预聚物，其中，丙烯酸酯类预聚物中含有邻苯二酚基团。

　　今年以来京东方Ａ新获得专利授权990个，较去年同期增加了68.08%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了113.2亿元，同比增1.97%。

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